第三百九十四章 与世界为敌(第2/4页)
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“之前觉得世界公司已经很冤了，但对比一下针对安布雷拉的才可怕！”
“世界公司只是顺带被波及的，主要目标都放在安布雷拉这的，实在是他们身上的利益太大了。”
“阿斯麦好阴险啊，一直捂着不放，差不多一锤定音的时候就出来了。”
“……”
伴随着网络上的讨论发酵，等到热度达到峰值的时候，阿斯麦这边也进行了一个直播节目。
同时有着某积电、四星、英特尔等诸多半导体工程师，还有一些芯片设计厂、封装厂等等的专业人士。
站在一处厂房外，所有人脸上都是带着笑容。
直播镜头前，由阿斯麦的工程师率先开口进行了介绍
“恐怕很多人都没想到，我们会直接放弃原本成熟的DUV技术，直接从头开始的研发EUV光刻机。”
一边说，他们还围绕着厂房一边走。
“或许从最开始，就没人看好EUV光刻机，因为虽然理论上这能达到DUV光刻机的十倍分辨率，但实在是太难了，难度太大，需要突破的瓶颈太多，对技术的需求极高，克服的难点数不胜数。”
一边说着他还一边打开了手环，形成了一个三维的全息投影简单的介绍道
“大家都知道光刻机的本质就是曝光，DUV光刻机，我们还能找到对应的镜片让深紫外线通过，特别是后来安布雷拉的技术产出的新镜片，更是加强了这一点，安布雷拉自己的光刻机就是利用了这一点弯道超车，在不使用浸润法的情况下超过了我们的效率！”
阿斯麦没有去贬低安布雷拉，甚至还可以说在旁边吹嘘。
因为只有将安布雷拉的强大体现出来，才能说明他们更强！
这是一个强大的对手，但还是输了，输在了我们面前！
“但，这一点对EUV光刻机却是不行，我们使用的13.5nm波长极紫外线电离能力极强，没有镜头可以适合这种精度下让这种高能光束通过，所以唯一可以选择的办法，只有反射！”
一边说着，全息图像上也进行了改变，讲解了一下大概的原理。
就是不断利用一些镜片的反射来完成对极紫外线的汇聚。
总共要完成十几次的反射才能达到最后的曝光要求！