第三百九十四章 与世界为敌(第3/4页)
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“这对于反射镜片的精度需求可以说是极高的，要感谢卡尔蔡司公司在这方面的付出。”
说完就对旁边卡尔蔡司的工程师做出了一个请的手势。
卡尔蔡司公司的工程师也顺势站了出来礼貌的说道
“我们同样利用到了安布雷拉的技术涂层，不过当然，就精度方面，我们还是有点自信的……”
随后，阿斯麦的代表又介绍了他们的EUV光源。
“之前说了，极紫外线需要通过十几次反射才能达到我们的效果，而因为极紫外线的电离消耗，每次反射都会损失大概30％左右的能量，最终我们能够有效利用的光只有大概2％，因此，我们需要光源有着足够且稳定的输出功率，为了克服这个问题Cymer公司可是花费了整整十年的时间来攻克，不过Cymer公司在三年前已经被我们公司完成了收购……”
一边说着，他一边继续外放了全息画面，里面连原理都出来了，就是用高能激光不断轰击液态金属滴，难度和精确度看着他提供的数据就让人头皮发麻。
只是制造出来不难，可要保持稳定和持久，还有足够输出功率的光源，那就要确保每次的撞击都极为精准，且频率要足够高。
不断轰击滴落的金属液滴，各方面稍微有一点失误都是完全不同的。
再后面随着不断的介绍，观众也明白了这台机器是怎么样组合起来的怪物。
大漂亮的光源技术，霓虹的光源转换设备，高卢的阀件，普鲁士的镜头，瑞典的轴承，都需要极为精密，缺一不可，连安装都要极为精细要避开周边环境的轻微震动。
甚至连运输光刻机的车辆，都是某积电的专利技术！
直播到这里，很多观众眼里也就看明白了问题所在。
EUV光刻机绝不是一个两个技术的问题，而是汇聚了全球所有最顶级的科技。
而这些顶级巨头汇聚在一起，就是为了压下安布雷拉公司。
还是直接靠着技术代差，一口气完成碾压的方式！
这本身，也是一种秀肌肉的表现！
如今，主流的芯片工艺才到14nm。
然而EUV光刻机的理论极限却是能达到硅基芯片的极限，可以达到1nm！
如果能解决隧穿问题，甚至还能更低！
是，这不符合商业规律和利润。