《半导体行业的革新产品出现》

《阿斯麦公司率先研发出EUV光刻机》

《芯片工艺制程或将提升十倍》

《芯片工艺已将达到物理极限》

在依然还有着‘魔力’‘外星生物’这些热点的时候,阿斯麦的EUV光刻机在背后一群资本的运作下,立刻就登上了全球热点。

本来正常来说,一件商品的更新迭代都是有迹可循的,或者说会有着技术储备。

比如明明EUV光刻机是重新的新开赛道,和以前的DUV光刻机关系不大,但在平行世界这也硬是等到了芯片达到了DUV光刻机极限的7nm瓶颈后才拿出来的。

但在这里,因为安布雷拉DUV光刻机带来的压力,还有人工智能以及量子计算+超算的模式前景摆在这里。

为了重新争夺这尖端利润,为了更美好的前景。

在如今最顶级的芯片工艺制程还是14nm的时候,阿斯麦公司就端出了他们的EUV光刻机。

而且因为安布雷拉对镜片领域的影响加持,还有其他各方面技术带来的竞争感。

阿斯麦这次提前拿出的EUV光刻机比原本计划的各项技术参数,还要更加优秀!

某积电、四星、英特尔等晶圆厂都已经到货,并开始组装调试!

显然阿斯麦的EUV光刻机并不是说刚刚才造出来的,是已经开始供货让他们加班加点的完成组装后才开始官宣的。

为的就是一步到位,为的就是减少给竞争对手的反应时间!

EUV光刻机比DUV要大得多,重量180吨,甚至连运输都需要专门的车辆,组装起来也相当麻烦。

如果不是提前就已经为这些合作晶圆厂的工作人员进行了培训,从头开始的话安装调试个大半年都是相当正常的。

而现在,在安布雷拉那边的压力下,不管是阿斯麦还是各大晶圆厂都拿出了自己的最大潜力,加班加点的全都联动了起来。

在各路资本推波助澜的炒作下,配合着这次对于安布雷拉新增的多项制裁,也一下让很多人多缓过了神来。

这一次,恐怕针对的就是安布雷拉!

“好大的手笔!”